1、專利保護有期限性。根據(jù)我國《專利法》規(guī)定，發(fā)明創(chuàng)造包括三類，即發(fā)明、實用新型和外觀設計。其中發(fā)明專利權的保護期限為20年，實用新型專利權和外觀設計專利權的期限為10年。這表明，一旦發(fā)明創(chuàng)造獲得專利權后，最多只能獲得20年的法律保護。超過這一期限，企業(yè)的發(fā)明和技術創(chuàng)新將被置于公眾領域，無償貢獻給社會，任何企業(yè)均可免費使用該發(fā)明或技術創(chuàng)新。
2、專利保護破壞秘密性。因為申請專利必須將企業(yè)的發(fā)明創(chuàng)造公之于眾，使該技術成為公知技術，這樣，任何人都可以輕易獲得專利技術，因此，專利技術的公開化，無疑給不法企業(yè)侵犯專利權提供了現(xiàn)實條件。
3、專利保護會使得企業(yè)失去競爭力。科研成果被授予專利后，其他企業(yè)可以在已獲得專利的技術基礎之上，再發(fā)展成新的發(fā)明創(chuàng)造，獲得新的專利。盡管企業(yè)的專利仍然受到法律保護，但是同更新的技術相比已經處于劣勢，企業(yè)將失去競爭力。
4、專利保護有代價。申請專利需要支付一定的費用，而獲得專利后也要繳納年費。對于科研成果，企業(yè)應根據(jù)不同情況，選擇專利保護或商業(yè)秘密保護。